【国外来华专利技术】本专利技术涉及瓷砖以及制造瓷砖的方法。本专利技术尤其涉及具有陶瓷基础层和包括印制图案的覆盖釉层的瓷砖。这样的瓷砖是已知的。ES 2 196 991公开了一种制造瓷砖的方法，其中，图案通过丝网印刷或者旋转绢印的方式进行印刷。EP 1 038 689公开了一种数字印刷技术，例如使用大理石图案来装饰瓷砖，其中，多色印刷在使瓷砖一次通过多个印刷模块的下方来实现。所述印刷在第一次烧结之前或者在连续的多次烧结之间进行。尽管使用这些技术可以形成复杂的图案，但是所获得的瓷砖表面是单调的。CN103241049A公开了一种可以使用大理石图案来获得复杂图案的例子。CN 203080849U公开了一种用于制造全抛光釉面瓷砖的装置。所述装置包括用于制造陶瓷基础层的砖坯加工设备，覆盖釉层可被喷射并且图案可以使用喷墨印刷设备来印刷。所述装置进一步包括用于烧结瓷砖的窑炉。DE 31 13 661A1公开了具有倒角边缘的陶瓷基础层。GB 1 320 637公开了具有形貌的瓷砖表面。这些文献的瓷砖并未描述印刷，所获得的形貌是相当粗糙的，并且每个瓷砖具有同样的形貌特征。这样的技术，特别是这样的形貌，因而并不适用于模仿天然产品例如木材和石头的瓷砖。US 8,507,098和BE 1019265公开了应用于陶瓷基础层的釉层的例子和施加釉的方法。在这些情况中，基本上涉及所谓的干釉。JP3-150283公开了用于瓷砖的干釉以及湿釉，其中，在压制加工后获得平滑表面的覆盖釉层。具有显示出木纹的印制图案的瓷砖也是已知的。这样的瓷砖大致具有矩形和长方形的形状，纹路基本上在纵向方向上延伸。即便是存在的话，在这样的瓷砖表面上提供的形貌也是粗糙的并表现为是人工的。当未施加形貌时，或者仅施加不规则的形貌特征时，当对着光线观看时，瓷砖看起来是有光泽的，并且由于在釉层上的镜面光反射，表现为白色表面。矩形和长方形形状的瓷砖在组装时会产生问题。这样的瓷砖在一定程度上可能是有穹顶的，并且以相互偏移的关系铺放瓷砖会产生高度差，特别是当对着光线看的时候，这是可清楚地观察得到的。相邻排的组装瓷砖之间的偏移关系是特别符合期望的，其中，所述瓷砖具有显示出木纹的印制图案。本专利技术在第一方面中的目标在于一种替换方式的瓷砖，根据其数种优选的实施方式，其能够提供一种解决现有技术瓷砖所具有的一个或更多个问题的技术方案。因此，本专利技术提出一种瓷砖，具有陶瓷基础层和包括印制图案的覆盖釉层，其特征在于，陶瓷的表面包括具有与所述印制图案相应的结构特征的形貌。换句话说，所述陶瓷的特征在于这样的事实，即一个或更多个形貌特征设置为与印制图案的特征处于固定的关系。举例来说，形貌特征可以设置为：与图案特征相一致，顺应图案特征，或者以预定距离与一形貌特征相间隔。特定的形貌特征和印制图案之间的一致性，使瓷砖形成较少的人工印象。本专利技术特别令人感兴趣的在于组装，其中，相邻排的长方形瓷砖以偏移关系而呈现。当对着光线而观察的时候，因为不规则的表面将更加扩散地反射入射光，源自相邻偏移的有穹顶瓷砖的可能的高度差会表现得不那么明显。此外，观察者的注意力将被复杂的形貌特征所吸引。根据本专利技术一种重要的优选实施方式，分布在整个瓷砖表面上或者基本上分布在整个瓷砖表面上的不规则的或者随机的形貌特征和与印制图案相应的结构特征相结合。光线的镜面反射的最佳可以通过这种优选的实施方式来实现。优选地，不规则的或者随机的形貌特征定义了平均深度或高度，其小于与印制图案相应的结构化形貌特征的平均深度或高度。注意到这些特征的平均深度或高度可以使用与在表面粗糙度测量领域中所通常使用的技术相类似的、特别是与用于定义粗糙度轮廓的Ra值的技术相类似的技术来记录，即通过记录和计算与平均平面的绝对偏离的算术平均值。优选地，这样的不规则的或者随机的形貌特征定义的Ra值为至少10微米，但是优选更大，即约25微米或更大，或者甚至是约50微米或更大。与印制图案相应的结构特征优选具有的平均深度或高度为至少100微米，或者更优选至少250微米。优选地，所述形貌基本上形成为在瓷砖的大体上平坦的上表面中存在的多个凹陷。优选地，所述印制图案和/或所述形貌基本上延伸于整个瓷砖表面。清楚的是，与印制图案相应的结构性形貌特征可以遍及瓷砖表面，而不覆盖瓷砖的整个表面，而如上所述的任选不规则的或者随机的特征优选覆盖瓷砖的整个表面。当模仿木材的时候，模仿结构形貌特征的木纹可根据所有可提供的印制木纹线来提供，而在印制木纹线之间，并不会提供这样的结构形貌特征。取而代之的是，在印制木纹线之间，可以提供如上所述的不规则的或随机的形貌特征。优选地，所述印制图案表现为木纹或石纹，优选在瓷砖的整个表面上表现为仅一个一体式木板或石砖。根据一种优选的实施方式，所述的印制图案是木纹，并且所述的结构特征为顺应木材图案纹理的纹路和/或顺应木纹纹理的多条相接续的线段。所述结构特征可以在陶瓷基础层的表面中形成，并使它们通过釉层显现至瓷砖的上表面。然而，优选地，所述结构特征具有的深度使得它们基本上或者完全地位于所述陶瓷基础层的上方。这样的结构特征可被制成为更不粗糙的。优选地，所述覆盖釉层至少包括设置在所述印制图案下方的颜色均匀的釉层，所述颜色优选为白色、米色或者灰色。这样的釉层可以隐藏陶瓷基础层表面中的缺陷。除了白色的釉色的使用，会减少在印制图案中获得目标颜色所需要的铺设油墨量。优选地，所述覆盖釉层至少部分地由所谓的湿釉来获得。在最优选的实施方式中，所述的结构特征在陶瓷基础层的表面中形成，并且陶瓷基础层的结构化表面提供有湿铺釉层。由于在其自己的表面复制陶瓷基础层结构的能力，湿铺釉层是优选的。这样的湿釉层优选涉及至少是硅石或SiO2的水性悬浮液，优选地，用量高于20％干重的悬浮液，并且甚至更优选30至75％干重。优选地，悬浮液还包含助熔剂组分，用于降低釉的熔融温度。当然，并不排除的是，所述覆盖釉层至少部分由所谓的干釉获得。在这样的情况中，干釉优选由平均颗粒尺寸为500微米或更低的颗粒构成。优选地，平均颗粒尺寸为200至400微米。根据一种特别的实施方式，所述覆盖釉层至少包括设置在所述印制图案上的透明釉层。在这种情况中，至少某些或者所有的所述结构特征可以形成于所述透明釉层中，其例如具有这样的深度，即它们基本上或者完全位于印刷层上方。根据另一种特别的实施方式，其可以与如上的实施方式组合或者不与之组合，所述覆盖釉层具有或者经成型以具有不规则纹理，其作用为如上所述的分布于瓷砖表面上的不规则的或随机的形貌特征。优选地，所述印制图案是以数字化方式印制的图案，并且优选至少有基色青色、绛红色、黄色和黑色形成。这样的印制图案可以使用与在EP 1 038 689中公开的相类似的装置、即单向喷墨打印机来施加，其中，每块瓷砖均单独地印刷，在装置的固定打印头下方每次通过一块瓷砖。本专利技术最优选的实施方式涉及矩形和长方形的瓷砖，其中，覆盖釉层包括印刷木纹，纹路基本上在瓷砖的纵向方向上延伸。瓷砖表面中的结构特征顺应印制纹理的路径。在这些结构特征之间，不规则的或者随机的形貌可以布置在整个或者基本上整个瓷砖表面上。优选地，本专利技术的瓷砖，并且特别是所述的覆盖釉层，具有根据ASTM C1027-99测定至少是等级2，但是优选为等

　　一种瓷砖，其具有陶瓷基础层和包括印制图案的覆盖釉层，其特征在于，所述瓷砖的表面包括形貌，所述形貌具有与所述印制图案相应的结构特征。

　　【国外来华专利技术】2013.12.20 US 61/919,1961.一种瓷砖，其具有陶瓷基础层和包括印制图案的覆盖釉层，其特征在于，所述瓷砖的表面包括形貌，所述形貌具有与所述印制图案相应的结构特征。2.根据权利要求1所述的瓷砖，其特征在于，所述印制图案基本上在瓷砖的整个表面上延伸。3.根据权利要求1或2所述的瓷砖，其特征在于，所述印制图案表示为木纹或石纹，优选仅在瓷砖的整个表面上表示为一体式木板或石砖。4.根据前述权利要求中的任一项所述的瓷砖，其特征在于，所述印制图案是木纹，并且所述结构特征是顺应木纹纹理的纹路的线条、或者是具有顺应木纹纹理的多条相接续的线.根据前述权利要求中的任一项所述的瓷砖，其特征在于，所述结构特征具有的深度使得它们完全位于所述陶瓷基础层的上方。6.根据前述权利要求中的任一项所述的瓷砖，其特征在于，所述覆盖釉层至少包括设置在所述印制图案的下方的颜色均匀的釉层。7.根据前述权利要求中的任一项所述的瓷砖，其特征在于，所述覆盖釉层至少包括设置在所述印制图案上方的透明釉层。8.根据权利要求7所述的瓷砖，其特征在于，至少某些所述的结构特征在所述透明...